Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Beskrivning:

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica återfuktande mask är en extra lugnande arkmask som ger huden en omedelbar fuktboost samtidigt som den lugnar och stärker hudbarriären. Med varumärkets signaturformula Hyalu-Cica, en kombination av hyaluronsyra för djup återfuktning och extrakt av Centella asiatica från Madagaskar för lugnande vård, hjälper masken till att lindra torrhet, irritation och rodnad i ett uppfriskande steg.

Den lätta essensen passar alla hudtyper, särskilt torr eller känslig hud, och absorberas snabbt så att huden känns fyllig, återfuktad och balanserad med fin lyster. Oavsett om du använder den som en del av din avkopplande kvällsrutin eller som en snabb fuktboost under dagen får den huden att se märkbart slätare, lugnare och mer strålande ut.

Rekommenderas för: Alla hudtyper.

Användning:

• Applicera arkmasken jämnt över ansiktet efter rengöring och ansiktsvatten.
• Låt verka i 15–20 minuter, ta sedan av masken och klappa försiktigt in den återstående essensen.
• Behöver inte sköljas av.

Ingredienser:

Vatten, butylenglykol, glycerin, niacinamid, 1,2-hexandiol, glycerylglukosid, xylitylglukosid, anhydroxylitol, allantoin, karbomer, arginin, xylitol, extrakt av Centella asiatica, polyglyceryl-10-laurat, etylhexylglycerin, xantangummi, adenosin, glukos, dinatrium-EDTA, hydrogenerat lecitin, extrakt av bananblomma från Musa sapientum, blomvatten från damascenerros, päronfruktextrakt, plommonfruktextrakt, skvalan, melonfruktextrakt, extrakt av murgrönans blad/stjälkar, natriumhyaluronat, ceramid NP, cetyletylhexanoat, kolesterol, makadamiafröolja, rapssteroler, oljesyra, stearinsyra, tokoferol, hyaluronsyra 0,1 ppm, hydrolyserad hyaluronsyra, hydrolyserat natriumhyaluronat, hydroxipropyltrimoniumhyaluronat, kaliumhyaluronat, tvärbunden natriumhyaluronatpolymer, pentylenglykol, natriumacetylerat hyaluronat