Madagascar Centella Hyalu-Cica Hydrating Mask

Kuvaus:

SKIN1004 Madagascar Centella Hyalu-Cica kosteuttava kangasnaamio rauhoittaa ihoa tehokkaasti ja antaa sille välittömän kosteusboostin samalla, kun se vahvistaa ihon suojamuuria. Naamion teho perustuu brändin tunnusomaiseen Hyalu-Cica koostumukseen, jossa syväkosteuttava hyaluronihappo yhdistyy Madagaskarilta peräisin olevaan rauhoittavaan rohtosammakonputkiuutteeseen. Se auttaa lievittämään kuivuutta, ärsytystä ja punoitusta yhdellä virkistävällä hoitokerralla.

Kaikille ihotyypeille, erityisesti kuivalle tai herkälle iholle, sopiva kevyt hoitoneste imeytyy nopeasti ja jättää ihon täyteläiseksi, heleäksi ja tasapainoiseksi. Käytitpä naamiota osana illan rentoutumishetkeä tai nopeana kosteutusboostina päivän aikana, se saa ihosi näyttämään silminnähden sileämmältä, rauhallisemmalta ja säteilevämmältä.

Suositellaan: Kaikille ihotyypeille.

Käyttöohje:

• Aseta kangasnaamio tasaisesti kasvoille puhdistuksen ja kasvoveden jälkeen.
• Anna vaikuttaa 15–20 minuuttia, poista naamio ja taputtele jäljelle jäänyt hoitoneste hellävaraisesti ihoon.
• Ei tarvitse huuhdella.

Ainesosat:

Vesi, butyleeniglykoli, glyseriini, niasiiniamidi, 1,2-heksaanidioli, glyseryyliglukosidi, ksylityyliglukosidi, anhydroksylitoli, allantoiini, karbomeeri, arginiini, ksylitoli, rohtosammakonputkiuute, polyglyseryyli-10 lauraatti, etyyliheksyyliglyseriini, ksantaanikumi, adenosiini, glukoosi, dinatrium EDTA, hydrattu lesitiini, banaaninkukkauute, damaskonruusun kukkavesi, päärynäuute, luumu-uute, skvalaani, meloniuute, muratin lehti-/varsiuute, natriumhyaluronaatti, keramidi NP, setyylietyyliheksanoaatti, kolesteroli, makadamiansiemenöljy, rypsisterolit, öljyhappo, steariinihappo, tokoferoli, hyaluronihappo 0.1 ppm, hydrolysoitu hyaluronihappo, hydrolysoitu natriumhyaluronaatti, hydroksipropyylitrimoniumhyaluronaatti, kaliumhyaluronaatti, natriumhyaluronaatin ristisilloitettu polymeeri, pentyleeniglykoli, natriumasetyloitu hyaluronaatti